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  • Stech-2X 雙盤(pán)無(wú)極調(diào)速金相磨拋機(jī)
    Stech-2X 雙盤(pán)無(wú)極調(diào)速金相磨拋機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

    型號(hào)：

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    Stech-2X 雙盤(pán)無(wú)極調(diào)速金相磨拋機(jī)采用了經(jīng)典按鍵模式，可使磨拋盤(pán)的轉(zhuǎn)速在100-1000r/min之間連續(xù)可調(diào)。設(shè)備標(biāo)配磁性轉(zhuǎn)換系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)快捷更換金相砂紙和拋光織物，可以完成試樣的磨、拋工序，展現(xiàn)了更廣泛的應(yīng)用性和高效性。
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  • KUT-200Y高速自動(dòng)精密切割機(jī)
    KUT-200Y高速自動(dòng)精密切割機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

    型號(hào)：KUT-200Y

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    KUT-200Y高速自動(dòng)精密切割機(jī)是一款觸摸屏控制、桌面型手自一體精密切割機(jī)。擁有優(yōu)秀的可視性和切割能力，寬敞的工作空間，高扭矩直流電機(jī)及無(wú)級(jí)變速控制系統(tǒng)，動(dòng)力強(qiáng)，效率高，操作簡(jiǎn)單。高度自動(dòng)化，人性化，較大程度減少人力投入，智能切割。適用于切割金屬材料、緊固件、線路板、半導(dǎo)體、晶體、陶瓷和巖石等樣品。是各企業(yè)科研院所及從事進(jìn)行金相學(xué)術(shù)研究的優(yōu)選設(shè)備。
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  • GPM-2-300 光譜磨平機(jī)
    GPM-2-300 光譜磨平機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

    型號(hào)：

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    GPM-2-300 光譜磨平機(jī)整機(jī)采用噴塑工藝制作，雙盤(pán)獨(dú)立控制，磨盤(pán)無(wú)級(jí)調(diào)速，罩殼設(shè)計(jì)可有效保障磨樣安全，機(jī)箱內(nèi)裝有吸塵裝置可避免環(huán)境污染，該機(jī)啟動(dòng)平穩(wěn)、傳動(dòng)功率大、噪音低，可滿(mǎn)足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質(zhì)量和制備效率，是一款理想和功能完善的金相制樣制備。
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  • VacFill-9 高級(jí)多工位真空冷鑲嵌機(jī)
    VacFill-9 高級(jí)多工位真空冷鑲嵌機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

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    VacFill-9 高級(jí)多工位真空冷鑲嵌機(jī)，為金相試樣真空冷鑲嵌機(jī)，提供良好的浸漬性能，操作快速高效。特別適合用于多孔材料，例如裂紋失效分析試樣，多孔鑄件及復(fù)合物，電子元件，礦石，陶瓷和噴涂等試樣。
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  • MPJ-35 金相試樣磨平機(jī)
    MPJ-35 金相試樣磨平機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

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    MPJ-35 金相試樣磨平機(jī)適合試樣的濕磨、干磨、磨削等工序，整機(jī)上半部分均由不銹鋼材料制成，外觀新穎、經(jīng)久耐用，配備金剛石打磨針，可將砂輪表面打平，提高砂輪利用率，配備供水系統(tǒng)，具有操作使用方便、安全可靠、易維護(hù)保養(yǎng)等優(yōu)點(diǎn)，適用于各種材料的磨平工作。
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  • MP-2B 三速金相試樣磨拋機(jī)
    MP-2B 三速金相試樣磨拋機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

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    MP-2B 三速金相試樣磨拋機(jī)具有獨(dú)立控制的雙盤(pán)系統(tǒng)用于研磨和拋光，機(jī)身采用厚板材制成，堅(jiān)固穩(wěn)定、經(jīng)久耐用；電機(jī)噪音低、磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)；采用柜式結(jié)構(gòu)，可存放各類(lèi)耗材、試樣，使用方便；配備冷卻水管，可調(diào)整旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行濕磨；使用時(shí)僅需更換砂紙及拋布，就能完成各種試樣的粗磨、細(xì)磨及拋光等各道工序，是實(shí)驗(yàn)室的理想金相制樣設(shè)備。
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  • KZP-250G 振動(dòng)拋光機(jī)
    KZP-250G 振動(dòng)拋光機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

    型號(hào)：

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    KZP-250G 振動(dòng)拋光機(jī)采用高頻微量振動(dòng)方式，對(duì)樣件表層進(jìn)行輕量精細(xì)拋光，盡量減少在拋光過(guò)程中的機(jī)械應(yīng)力；適用于在各種材料上制備高質(zhì)量的拋光表面，包括電子背散射衍射分析 (EBSD) 應(yīng)用、原子力顯微鏡（AFM）分析、電鏡（SEM）分析等前序樣品制備非常有效。同時(shí)，振動(dòng)拋光因其優(yōu)異的機(jī)械-化學(xué)拋光效果，適合大部分材料的精拋和終拋，尤其適用于軟質(zhì)和韌性材料，如純鈦及鈦合金、純鋁及鋁合金、純銅。
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  • KHMP-2000 全自動(dòng)磨拋機(jī)
    KHMP-2000 全自動(dòng)磨拋機(jī)

    更新時(shí)間：2025-01-21

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    KHMP-2000 全自動(dòng)磨拋機(jī)集預(yù)磨、研磨、拋光于一體的雙盤(pán)式全自動(dòng)磨拋機(jī)。它采用單片機(jī)技術(shù)通過(guò)觸摸屏進(jìn)行控制，磨拋盤(pán)采用直流無(wú)刷電機(jī)驅(qū)動(dòng)，V帶進(jìn)行傳動(dòng)，磨頭采用步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，同步帶進(jìn)行傳動(dòng)。具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，噪音低，安全可靠等特點(diǎn)；可以根據(jù)用戶(hù)需要自行調(diào)整磨頭和磨拋盤(pán)的轉(zhuǎn)速 ，自行設(shè)定壓力，自行設(shè)定制樣時(shí)間，適應(yīng)不同需求；自帶照明系統(tǒng)，方便取放試樣；自帶冷卻裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻。
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